井上　拓海さん　（理工学部　電気電子工学科 学部3年生）
大島　俊一さん　（理工学部　電気電子工学科 学部3年生）

娱乐老虎机_mg老虎机-【唯一授权牌照】七年電気学会U-21学生研究発表会　奨励賞

ミスト化学気相成長装置の作製および酸化物半導体の成膜

　酸化物半導体は、ディスプレイなどの表示デバイスをスイッチングさせる薄膜トランジスタのチャネル層として使用されており、今後半導体メモリにおいてもシリコンに変わる半導体材料として期待されています。また、ミスト化学気相成長法は、比較的簡単な装置構成で高品質の酸化物半導体を成膜できる手法です。本取り組みは、半導体薄膜製造装置の仕組みから成膜プロセスや膜質評価を自主的に学ぶことを念頭に、ミスト化学気相成長装置を設計?作製するところからスタートして、透明かつ半導体特性をもつ酸化インジウム薄膜をガラス基板上に成膜することができました。本研究発表会は、中学生、高校生、高専生および「卒業研究未着手」の大学生を対象とした研究発表会であり、以上の研究成果から奨励賞を受賞しました。

本活動は、学びのコミュニティ創出支援事業の支援のもとに行われました。

※受賞者の学年は受賞時のものです。